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废气经阻火器过滤后,通过主进阀、旁通阀的同步反向切换调节进入热交换器,热交换器的热气升高一定温度后进入预热室、经过预热室的加热使废气升温到催化起燃温度(250度)然后进入催化反应床,在催化剂的活性作用下,有机废气进行氧化反应生成无害的水和二氧化碳,并放出一定的热量。反应后的高温气体再次进入热交换器,经换热后,后以较低的温度经引风机排入大气。催化燃烧是借助催化剂在低温下(200-400度)实现对有机物的完全氧化,因此,操作简单、、净化效率高,在有机废气特别是回收价值大的有机废气净化等领域应用广泛。 不同的排放场合和不同的废气,有不同的催化燃烧废气处理工艺流程。环保 催化燃烧性能特点1、用优质金属铂、钯镀在蜂窝陶瓷载体上作为催化剂、净化效率高达97-99%,设备寿命长、且可再生、气体流畅阻力小;2、设施完备:阻火除尘器、泄压孔、超温报警等保护设施全;3、预热15-30分钟全功率加热。工作时只消耗见机功率即可,当废气浓度较低时,自动间歇补偿加热;4、余热可以返回烘道用来烘干工作,降低原烘道中消耗功率;也可供工厂其它方面热能回用 催化燃烧处理注意事项:1、废气成分中,不能含有下列物质;有高粘性的油脂类。如磷、铋、砷、锑、汞、铅、锡;高浓度的粉尘;2、设备选型时,注明废气的成分、浓度及出口温度;3、设备安装场所无腐蚀性气体,并有良好的防雨措施;4、设备所需电源为:三相交流380V频率50Hz; 催化燃烧适用范围:1、用于有机溶剂的净化处理如:苯类、醇类、酯类、酚类、醚类、烷类等混合性有机废气;2、适用于漆包线、机械、电机、化工、仪表、汽车、发动机、塑料、电器等行业的有机废气净化;3、适用于各种烘道、印刷油墨、电机绝缘处理等烘干流水线等。
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车间废气处理设备 在用多孔性固体物质处理流体混合物时,流体中的某一组分或某些组分可被吸表面并浓集其上,此现象称为吸附。吸附处理废气时,吸附的对象是气态污染物,气固吸附。被吸附的气体组分称为吸附质,多孔固体物质称为吸附剂。固体表面吸附了吸附质后,一部被吸附的吸附质可从吸附剂表面脱离,此现附。 车间废气处理设备 从理论上讲,只要半导体吸收的光能不小于其带隙能,就足以激发产生电子和空穴,该半导体就有可能用作光催化剂,常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点,具体研究中可根据需要选用,如CdS半导体带隙能较小,跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易发生光腐蚀,使用寿命有限。相对而言,Ti02的综合性能较好,是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。
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光催化是常温深度反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成无害的产物,而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁,即使用常规的催化、氧化方法亦需要高温,燃烧法用于处理高浓度Voc与有恶臭的化合物很有效,其原理是用过量的空气使这些杂质燃烧,大多数生成二氧化碳和水蒸气,可以排放到大气中。但当处理含氯和含硫的有机化合物时,燃烧生成产物中HCl或SO2,需要对燃烧后气体进一步处理设备。 从理论上讲,只要半导体吸收的光能不小于其带隙能,就足以激发产生电子和空穴,该半导体就有可能用作光催化剂,常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点,具体研究中可根据需要选用,如CdS半导体带隙能较小,跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易发生光腐蚀,使用寿命有限。相对而言,Ti02的综合性能较好,是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。
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